Ter, 03 de fevereiro de 2026
Defesa: Paula Larissa Lima Araujo
Filmes finos de NbN e Nb-Si-N, contendo 2,0; 5,0 e 10,0 at.% de Si, foram depositados via magnetron sputtering reativo, com o objetivo de investigar a possível formação de solução sólida ou duas fases, bem como as propriedades oxidativas após tratamento a 300, 500 e 700 °C. As análises por RBS confirmaram os teores de Si obtidos. A análise microestrutural, realizada por meio de imagens de MEV-FEG da seção transversal, mostrou que os... +Informações
